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德爾集團產品

序號	產品類別	產品名稱	英文名稱	化學式	級別	純度	用途
序號	產品類別	產品名稱	英文名稱	化學式	級別	純度	用途
1	含氟特氣	六氟化硫	Sulfur Hexafluoride	SF6	高純級 HP	99.997%(4N7)	滅弧絕緣氣體，特高壓輸變電電力裝備用
2	含氟特氣	六氟化硫	Sulfur Hexafluoride	SF6	電子級 EL	99.9995%(5N5)	電子氣體，主要應用于集成電路、面板、LED等的清洗、蝕刻工藝制程過程
3	含氟特氣	四氟化碳	Carbon Tetrafluoride	CF4	電子級 EL	99.9995%(5N5)	電子氣體，主要應用于集成電路、面板、LED等的清洗、蝕刻工藝制程過程；也大量應用于光纖棒制作工藝過程
4	含氟特氣	六氟乙烷	Hexafluoroethane	C2F6	電子級 EL	99.999%(5N)	電子氣體，主要應用于集成電路、面板、LED等的清洗、蝕刻工藝制程過程
5	含氟特氣	三氟甲烷	Trifluoromethane	CHF3	電子級 EL	99.9995%(5N5)	電子氣體，主要應用于集成電路、面板、LED等的清洗、蝕刻工藝制程過程
6	含氟特氣	八氟環丁烷	Octafluorocyclobutane	C4F8	電子級 EL	99.999%(5N)	電子氣體，主要應用于集成電路、面板、LED等的清洗、蝕刻工藝制程過程
7	含氟特氣	氟氮混合氣	Fluorine Nitrogen mixture	F2/N2	電子級 EL	F2: 99.95%(3N5) N2:99.999%(5N)	電子氣體，主要應用于集成電路、面板、LED等的清洗、蝕刻工藝制程過程
8	含氟特氣	八氟丙烷	Perfluoropropane	C3F8	電子級 EL	99.999%(5N)	電子氣體，主要應用于集成電路、面板、LED等的清洗、蝕刻工藝制程過程
9	含氟特氣	二氟甲烷	Difluoromethane	CH2F2	電子級 EL	99.9995%(5N5)	電子氣體，主要應用于集成電路、面板、LED等的清洗、蝕刻工藝制程過程
10	含氟特氣	一氟甲烷	Fluoromethane	CH3F	電子級 EL	99.9995%(5N5)	電子氣體，主要應用于集成電路、面板、LED等的清洗、蝕刻工藝制程過程
11	含氟特氣	三氟化氯	Chlorine Trifluoride	ClF3	電子級 EL	99.995%(4N5)	電子氣體，主要應用于集成電路、面板、LED等的清洗、蝕刻工藝制程過程
12	含氟特氣	三氟化磷	Phosphorus trifluoride	PF3	電子級 EL	99.99%(4N)	電子氣體，蝕刻工藝使用，將用于高深寬比的高層新一代產品刻蝕
13	電子特氣	硅烷	Silane	SiH4	電子級 EL	99.9999%(6N)	廣泛應用于微電子、光電子、太能能電池制造、平板顯示器、集成電路、鋰電池制造、碳硅負極等領域
14	電子特氣	氧化亞氮	Nitrous Oxygen	N2O	電子級 EL	99.9995%(5N5)	用于半導體工業SIO2薄膜沉積等工藝，光伏工業金屬背光氣氧化、氮摻雜氧化、調控材料表面和界面結構等，也可用于真空撿漏、溶劑及煙霧殺蟲劑等領域
15	電子特氣	液氧	Ultra-pure Oxygen	O2	電子級 EL	99.9999%(6N)	用于半導體工業等離子蝕刻等工藝，光伏工業化學氣相沉積、硅片的清洗時刻和電池片鈍化等，特種冶煉除雜，醫學治療、電子工業等離子刻蝕，航空航天等領域
16	稀有氣體	高純氙	High Purity Xenon	Xe	電子級 EL	99.9995%(5N5)	電子氣體，主要應用于集成電路、面板、LED等的清洗、蝕刻工藝制程過程
17	稀有氣體	高純氪	High Purity Krypton	Kr	電子級 EL	99.999%(5N)	電子氣體，主要應用于集成電路、面板、LED等的清洗、蝕刻工藝制程過程
18	稀有氣體	高純氖	High Purity Neon	Ne	電子級 EL	99.999%(5N)	電子氣體，主要應用于集成電路、面板、LED等的清洗、蝕刻工藝制程過程
19	稀有氣體	高純氦	High Purity Helium	He	電子級 EL	99.999%(5N)	電子氣體，主要應用于集成電路、面板、LED等的清洗、蝕刻工藝制程過程
20	基礎化學品	無水氟化氫	Hydrogen Fluoride	AHF	工業級 IN	99.98%(3N)	用于制取氟元素、氟鹽、氟鹵烷也可用作氟化劑。制備電子級氫氟酸。廣泛用于半導體制程、光伏行業、制冷劑、新能源、橡膠涂料、金屬表面處理等領域
21	基礎化學品	氫氟酸	Hydrofluoric Acid	HF	工業級 IN	-	廣泛用于玻璃工業、半導體制程、光伏行業、制冷劑、新能源、橡膠涂料、金屬表面處理等領域
22	新能源材料	六氟磷酸鋰	Lithium hexafluorophosphate	LiPF6	電池級(晶體)	99.95%(3N5)	鋰電池電解液主要鋰鹽
23	新能源材料	四氟硼酸鋰	Lithium tetrafluoroborate	LiBF4	電池級(晶體)	99.50%	鋰電池電解液功能性新型添加劑
24	新能源材料	雙草酸硼酸鋰	Lithium bisoxalate borate	LiBOB	電池級(晶體)	99.50%	鋰電池電解液功能性新型添加劑
25	新能源材料	二氟磷酸鋰	Lithium difluorophosphate	LiPO2F2	電池級(晶體)	99.9%(3N)	鋰電池電解液功能性新型添加劑
26	新能源材料	二氟草酸硼酸鋰	Lithium borate difluoroxalate	LiDFOB	電池級(晶體)	99.9%(3N)	鋰電池電解液功能性新型添加劑
27	新能源材料	二氟雙草酸磷酸鋰	Lithium difluorodioxalate phosphate	C4F2LiO8P	電池級(EMC液態)	20±2%(濃度)	鋰電池電解液功能性新型添加劑
28	濕電子化學品	氫氟酸	Hydrofluoric Acid	HF	電子級 UPSSS、UPSS、UPS、EL、IN	＜10 ppt	電子級濕化學品，主要應用于集成電路、面板、LED等的清洗、蝕刻工藝制程過程
29	超高純氣體	氟化氫	Hydrogen Fluoride	AHF	電子級 UPSSS	99.999%(5N)	電子氣體，蝕刻工藝使用，將用于高深寬比的高層新一代產品刻蝕；
30	濕電子化學品	硫酸	Sulphuric Acid	H2SO4	電子級 UPSSS、UPSS、UPS、EL、IN	＜10 ppt	電子級濕化學品，主要應用于集成電路、面板、LED等的清洗、蝕刻工藝制程過程
31	濕電子化學品	氨水	Ammonia	NH3.H2O	電子級 UPSSS、UPSS、UPS、EL、IN	＜10 ppt	電子級濕化學品，主要應用于集成電路、面板、LED等的清洗、蝕刻工藝制程過程
32	濕電子化學品	氟化銨	Ammonium Fluoride	NH4F	電子級 UPSS、UPS、EL、IN		電子級濕化學品，主要應用于集成電路、面板、LED等的清洗、蝕刻工藝制程過程
33	濕電子化學品	雙氧水	Hydrogen Peroxide	H2O2	電子級 UPSSS、UPSS、UPS、EL、IN	＜10 ppt	電子級濕化學品，主要應用于集成電路、面板、LED等的清洗、蝕刻工藝制程過程
34	濕電子化學品	鹽酸	Hydrochloric Acid	HCl	電子級 UPSSS、UPSS、UPS、EL、IN	＜10 ppt	電子級濕化學品，主要應用于集成電路、面板、LED等的清洗、蝕刻工藝制程過程
35	濕電子化學品	硝酸	Acetic Acid	HNO3	電子級 UPSSS、UPSS、UPS、EL、IN	＜10 ppt	電子級濕化學品，主要應用于集成電路、面板、LED等的清洗、蝕刻工藝制程過程
36	TFT化學品	光阻剝離液	Stripper	Mixture	電子級 EL		主要應用于面板、LED等的清洗、蝕刻工藝制程過程
37	TFT化學品	光阻洗凈液	EBR	Mixture	電子級 EL		主要應用于面板、LED等的清洗、蝕刻工藝制程過程
38	TFT化學品	鋁蝕刻液	Al Etchant	Mixture	電子級 EL		主要應用于面板、LED等的清洗、蝕刻工藝制程過程
39	TFT化學品	銅蝕刻液	Cu Etchant	Mixture	電子級 EL		主要應用于面板、LED等的清洗、蝕刻工藝制程過程
40	TFT化學品	BOE蝕刻液	BOE Etachant	Mixture	電子級 UPSS、UPS、 EL	＜100 ppt	主要應用于面板、LED等的清洗、蝕刻工藝制程過程
41	基礎化學品	98%硫酸	Sulphuric Acid	H2SO4	工業級IN
42	基礎化學品	104.5%發煙硫酸	Sulphuric Acid	H2SO4	工業級IN
43	基礎化學品	精制硫酸	Sulphuric Acid	H2SO4	工業級IN
44	基礎化學品	三氧化硫	Sulfur Trioxide	SO3	工業級IN

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